UHV系统应用

UHV和XHV本底制作技术

UHV和XHV本底制作简介

UHV是指1.0x10-7和1.0x 10-12mabar的压力为特征的真空状态,通常叫超高真空。XHV是指低于1.0x10-12mbar以下压力的真空状态。通常称为极高真空。UHV 和XHV是通过排气设备将气体从固定容器中抽出而产生的。

UHV和XHV本底技术广泛应用于UHV薄膜制备、半导体制程、分子束外延 (MBE) 、 X 射线光电子能谱、ARPES(角分辨光电子能谱)、 PLD/PVD 应用、质谱分析应用等。

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